近日，國家知識產(chǎn)權(quán)局發(fā)布了2025年7月國家知識產(chǎn)權(quán)局審查注冊登記統(tǒng)計(jì)月報(bào)。相較于2024年1-7月，2025年1-7月發(fā)明專利授權(quán)量同比減少26.59%，實(shí)用新型同比下降24.69%，外觀設(shè)計(jì)增加2.05%。
據(jù)此前國家知識產(chǎn)權(quán)局發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示：
相較于2024年1月，2025年1月發(fā)明專利授權(quán)量同比下降13.93%，實(shí)用新型同比下降4.99%，外觀設(shè)計(jì)同比增長10.69%。
相較于2024年1-2月，2025年1-2月發(fā)明專利授權(quán)量同比減少15.93%，實(shí)用新型同比下降2.67%，外觀設(shè)計(jì)增加9.34%。
相較于2024年1-3月，2025年1-3月發(fā)明專利授權(quán)量同比減少20.99%，實(shí)用新型同比下降2.73%，外觀設(shè)計(jì)增加10.07%。
相較于2024年1-4月，2025年1-4月發(fā)明專利授權(quán)量同比減少26.02%，實(shí)用新型同比下降11.62%，外觀設(shè)計(jì)增加3.95%。
相較于2024年1-5月，2025年1-5月發(fā)明專利授權(quán)量同比減少28.04%，實(shí)用新型同比下降17.79%，外觀設(shè)計(jì)增加2.77%。
相較于2024年1-6月，2025年1-6月發(fā)明專利授權(quán)量同比減少28.75%，實(shí)用新型同比下降21.71%，外觀設(shè)計(jì)增加3.12%。
至此，發(fā)明專利和實(shí)用新型授權(quán)量連續(xù)七個(gè)月同比下降，實(shí)用新型專利授權(quán)量同比下降比率再次突破新高。
（來源：IPRdaily公眾號）